%0 Journal Article
%T 模拟空间原子氧对teflonfep/al薄膜性能的影响
%A 初文毅
%A 杨德庄
%A 何世禹
%A 李丹明
%J 材料研究学报
%D 2005
%X ？在模拟空间环境原子氧辐照的条件下,采用固定的原子氧束流密度进行不同时间的辐照试验,研究了温控材料teflonfep/al薄膜的质量损失、光学性能、表面形貌和表面粗糙度的演化规律.结果表明,材料的质量损失与原子氧的作用时间成正比.辐照前后材料的表面形貌和表面粗糙度发生明显变化,致使太阳吸收率发生明显变化,从而导致材料的光学性能发生变化.
%K 高分子材料
%K 原子氧
%K 质量损失
%K 表面粗糙度
%U http://www.cjmr.org/CN/abstract/abstract1379.shtml