%0 Journal Article
%T 非平衡磁控溅射类金刚石碳膜的性能
%A 柳翠
%A 李国卿
%A 张成武
%A 李新
%J 材料研究学报
%D 2004
%X ？用非平衡磁控溅射的方法在室温下制备了光滑、均匀、致密的类金刚石(dlc)薄膜,分析和研究了dlc膜的形貌、结构和摩擦特性.结果表明,靶工作电流对dlc膜的沉积有重要的影响.随着工作电流的增大,薄膜的沉积速率增大,薄膜中sp{3}键的含量增加.薄膜的摩擦系数随着工作电流的增加略有增大,在摩擦的初始阶段,摩擦系数较高,随着摩擦循环次数的增加,摩擦系数逐渐减小,并逐渐趋于稳定.
%K 无机非金属材料
%K 类金刚石碳膜
%K 非平衡磁控溅
%U http://www.cjmr.org/CN/abstract/abstract996.shtml