%0 Journal Article
%T 磁控溅射ti合金薄膜结构特征及贮氢性能
%A 马爱华
%A 郑华
%A 于洪波
%A 刘实
%A 王隆保
%J 材料研究学报
%D 2005
%X ？采用磁控溅射方法制备了ti膜及timo、timoyal和tizryal等三种合金膜.合金膜中mo、zr和al三种元素成份与靶材成分基本一致,而y元素则与靶材成分有较大的偏差.在400℃吸氢工艺下,四种膜材的吸氢动力学性能良好,没有脱膜现象,饱和吸氢量均可超过1.5(h/m).膜材的吸氢pct曲线表明,含mo合金膜材具有最高的吸氢平衡压,外推出的室温下的数量级约为10$^{-4}$pa.
%U http://www.cjmr.org/CN/abstract/abstract1188.shtml