%0 Journal Article
%T 退火对mg离子注入p-gan薄膜性能的影响
%A 罗浩俊
%A 胡成余
%A 姚淑德
%A 秦志新
%J 材料研究学报
%D 2006
%X ？在用mocvd方法生长的p--gan薄膜中注入mg离子,然后在n$_{2}$气氛下在850$\sim$1150℃之间快速退火,研究了mg$^{+}$离子注入后样品退火前后的结构、光学和电学性质.结果表明,离子注入使gan晶体沿着$a$轴和$c$轴方向同时膨胀.在离子注入后的p--gan薄膜的拉曼散射谱中出现波数为300cm$^{-1}$和360cm$^{-1}$两个新峰,其强度随着退火温度而变化.这两个新峰分别对应于布里渊区边界的最高声学声子支的振动模式和局域振动模式.消除这两个损伤引起的峰的临界温度是不同的.注入剂量1$\times$10$^{14}$cm$^{-2}$是一个临界值,对于注入剂量高于这个临界值的样品,高温退火不能使其晶体质量全部恢复.
%K 无机非金属材料
%K p--gan
%K 离子注入
%U http://www.cjmr.org/CN/abstract/abstract1875.shtml