%0 Journal Article
%T ato半导体颜料在伪装涂料中的应用研究
%A 孙国亮
%A 陈韬文
%A 郑文伟
%J 涂料工业
%D 2010
%X ？以sncl4、sbc13、naoh等为原料，采用共沉淀法制备ato半导体颜料，采用xrd、sem、eds对颜料结构、成分、形貌进行表征，比较了ato半导体颜料与常见的单组分颜料涂层红外发射率大小。通过颜色混合规律将ato半导体颜料与着色颜料混合制备了绿色伪装涂料，制备的涂层具有较低的红外发射率，并且其光谱反射曲线满足美军标的光谱通道要求，具有较好的应用前景。
%K 共沉淀法
%K ato半导体颜料
%K 红外发射率
%K 光谱反射率
%K 伪装涂料
%U http://222.185.229.18/web/CN/abstract/abstract54909.shtml