%0 Journal Article
%T 常压cvd淀积非晶硅薄膜的研究
%A 王永兴
%J 武汉理工大学学报
%D 1991
%X ？本文应用常压cvd法制备出了α-si薄膜,它是非晶硅太阳能电池的良好材料。采用x射线衍射、扫描电镜、红外透射谱和x射线光电子能谱对α-si薄膜的结构和性能进行了研究,并给出了α-si薄膜的淀积理论模型。
%K 常压cvd
%K 非晶硅薄膜
%K 淀积理论模型
%U http://www.whlgdxxb.com.cn//qikan/Cpaper/zhaiyao.asp?bsid=27663