%0 Journal Article
%T 热处理温度对静电自组装pdda/sio_2光学薄膜的影响
%A 许丕池
%J 武汉理工大学学报
%D 2005
%X ？以正硅酸乙酯(ethylsilicate,teos)为原料,乙醇为溶剂,nh3？h2o为催化剂,制备了胶粒带负电荷的sio2溶胶。在低折射率(1.45)的玻璃基片上用静电自组装(electrostaticselfassemblymultiplayer,esam)法制备了带正电荷的聚电解质聚二烯丙基二甲基氯化铵pdda与sio2的有机/无机复合层状薄膜。然后对其进行热处理,研究了不同温度热处理对薄膜结构、组成、折射率、机械强度、激光损伤阈值以及光学性能的影响。得到了经520℃热处理后折射率为1.27、激光损伤阈值为68j/cm2、520nm处的透光率为99.0%、抗机械损伤强度大的sio2光学增透薄膜。但最大的透光率是400℃热处理后520nm处的透光率为99.2%。
%K sio_2
%K 静电自组装
%K 热处理
%K 增透膜
%U http://www.whlgdxxb.com.cn//qikan/Cpaper/zhaiyao.asp?bsid=24350