%0 Journal Article %T 化学气相沉积技术的研究及在无机材料制备中的应用进展(待续) %A 唐新峰 %J 武汉理工大学学报 %D 1994 %X ?本文论述了化学气相沉积(cvd)技术的基本原理、特点及影响其过程的因素;对近期发展起来的、具有广泛应用前景的几种典型的cvd方法;热灯丝cvd,高频及微波等离子体cvd,激光cvd,金属有机化合物cvd的特点进行了阐述。 %K cvd技术 %K 特点 %U http://www.whlgdxxb.com.cn//qikan/Cpaper/zhaiyao.asp?bsid=27792