%0 Journal Article %T 氧化硅基feooh/tio2纳米复合膜的自组装制备与表征 %A 周尧 %A 孙振亚 %J 武汉理工大学学报 %D 2013 %X ?以氧化硅(sio2)为基底,在其上组装磺酸根(so3h)为外侧功能团的自组装分子单层。以此为模板,先后采用ticl4-hcl液相反应体系和feno3-hno3液相反应体系诱导制备了feooh/tio2复合薄膜。通过sem和hrtem对该薄膜表征,确定它们分别属于锐钛矿和针铁矿(α-feooh)结构,并对其生长机理进行了探讨。tio2薄膜的形成与基底磺酸基团之间的相互作用有关,α-feooh的形成既受基底单分子层磺酸基团的调控,也受到tio2表面键的化学作用,hrtem观察到纳米锐钛矿和针铁矿二者可通过合适的界面如tio2(004)/(111)?α-feooh共晶生长。 %K 自组装 %K tio2 %K feooh %K 纳米薄膜 %K hrtem')">自组装 %K tio2 %K feooh %K 纳米薄膜 %K hrtem %U http://www.whlgdxxb.com.cn//qikan/Cpaper/zhaiyao.asp?bsid=32176