%0 Journal Article
%T xps研究大气环境下热处理温度对玻璃基tin薄膜组成与结构的影响
%A 赵青南
%J 武汉理工大学学报
%D 2001
%X ？用直流反应磁控溅射法在浮法玻璃基片上制备了tin薄膜。镀膜试样在大气环境下分别经520℃、570℃和620℃热处理10min。用x射线光电子能谱(xps)得到的结果显示,经520℃热处理的试样,tin薄膜上出现了tinxoy层。经570℃热处理的试样,tin薄膜上的tinxoy成分减少,tio2的含量增加,620℃热处理的试样表面上主要是tio2。570℃和620℃热处理的试样表面上存在少量来源于tin热氧化分解的单质氮
%K xps
%K tin薄膜
%K 磁控溅射
%K 热处理
%U http://www.whlgdxxb.com.cn//qikan/Cpaper/zhaiyao.asp?bsid=25197