%0 Journal Article
%T 偏压对磁控溅射cr-n薄膜组织及性能影响
%A 姚晓红
%A 田林海
%A 马永
%A 唐宾
%J 武汉理工大学学报
%D 2010
%X ？采用磁控溅射离子镀制备cr？n薄膜，研究基体偏压对cr？n薄膜组织结构和性能的影响。分别用辉光放电光电子谱（gdoes）、场发射扫描电镜（fesem）和x射线衍射(xrd)分析薄膜成分和组织结构，显微硬度计测量薄膜硬度。结果表明，薄膜为非化学计量比的cr？n薄膜，n/cr原子比均小于0.25，薄膜主要以cr的衍射峰为主。在偏压达到？60　v？后薄膜显示了较高的硬度（＞25　gpa），其归因于离子轰击导致的薄膜的致密度的提高。偏压超过60　v后，致密度达到饱和，硬度增加不明显。
%K 偏压
%K 磁控溅射
%K cr-n薄膜
%K 硬度
%U http://www.whlgdxxb.com.cn//qikan/Cpaper/zhaiyao.asp?bsid=29399