%0 Journal Article
%T 位错从裂纹尖端的动态发射
%A 赵瑞环
%A 戴树和
%A 李振民
%J 南京工业大学学报(自然科学版)
%P 7-9
%D 1983
%X 在载荷作用下,位错一个个地从模式ⅱ或模式ⅲ的裂纹尖端放出。放射过程发生在局部应力强度因子达到临界值时,放射出来的位错以一定速度离开,运动速度与大于晶格摩擦力的有效剪应力的三次方成正比。本研究发现饱和所需的时间与晶格摩擦力的关系至大,与施加应力关系较小,几乎与放射位错的临界应力强度因子无关。无位错区的大小随着位错放出数目增加而加大,大的临界应力强度因子其值也大,但与晶格摩擦力的大小没什么影响。卸载时,某些位错回至裂纹内而消失,此时无位错区的大小依卸除的载荷而增加。位错的动态分布与静态分布不同,仅仅在饱和时二者才接近一致。
%K 无位错区
%K 裂纹尖端
%K 摩擦力
%K 临界应力强度因子
%K 开裂纹
%K 晶格
%K 放出
%K 临界值
%K 从模式
%K 放射
%U http://zrb.njutxb.com/oa/DArticle.aspx?type=view&id=198302002