%0 Journal Article
%T 聚苯胺薄膜厚度的表征及原位生长
%A 李冀蜀
%A 顾大伟
%A 沈临江
%A 杨南如
%J 南京工业大学学报(自然科学版)
%P 6-11
%D 2010
%R 10.3969/j.issn.1671-7627.2010.05.002
%X 以石英基片为衬底，分别在常压01mpa和500mpa高压条件下采用原位聚合法制备聚苯胺(pani)薄膜.通过对pani薄膜的厚度进行原子力显微镜的直接测量和光谱的间接表征，建立了薄膜厚度df(nm)与薄膜uvvis吸收光谱中400nm处吸收强度a400间的关系：df=548a400(01mpa)及df=341a400(500mpa).根据这一关系进一步测量了薄膜的生长曲线，并通过扫描电镜（sem）形貌观测和电导率测试，研究了原位聚合pani薄膜在不同合成压力下的生长及导电特性.
%K 聚苯胺薄膜
%K 厚度
%K 压力
%K 原位聚合
%K 生长
%U http://zrb.njutxb.com/oa/DArticle.aspx?type=view&id=20100502