%0 Journal Article
%T mfi型分子筛膜晶内孔道的在线cvd调变
%A 吴再娟
%A 洪周
%A 张玉亭
%A 顾学红
%J 南京工业大学学报(自然科学版)
%P 43-47
%D 2013
%R 10.3969/j.issn.1671-7627.2013.04.009
%X 采用在线化学气相沉积(cvd)法对全硅mfi型分子筛膜进行晶内孔道修饰,考察晶间缺陷对膜晶内孔道修饰效果的影响。采用硅烷水解法对缺陷较多的膜进行缺陷孔的修补,结合扫描电子显微(sem),观察膜微结构的变化。结果表明:分子筛膜表面缺陷显著影响晶内孔道调变效果。500℃时,缺陷较少的膜经晶内修饰后h2/co2分离因子由修饰前的2.7提高到42.3,h2渗透性由2.25×10-7mol/(m2·s·pa)降至1.52×10-7mol/(m2·s·pa)。经缺陷修补后的分子筛膜,其晶内修饰后的h2/co2分离因子比未修补的膜有一定幅度的提高。
%K 分子筛膜
%K 修饰
%K h2/co2分离
%U http://zrb.njutxb.com/oa/DArticle.aspx?type=view&id=20130409