%0 Journal Article
%T 等离子体化学气相淀积法生长y2o3薄膜
%A 彭定坤？
%A 于晖？
%A 孟广耀？
%A 沈瑜生？
%J 无机化学学报
%P 87-92
%D 1987
%X 采用等离子体激活的化学气相淀积装置系统,以钇的β-二酮类螯合物(y(dpm)3)为源物质,于低温低压等离子体条件下,在单晶硅、兰宝石和石英玻璃衬底上生长了y2o3薄膜.对生长层进行形貌观察、表面组成分析、x-射线衍射结构分析和光学性能测试.结果表明,淀积层形貌和结构与衬底性质有关.y2o3生长层与单晶硅和兰宝石衬底存在确定的外延关系,在无定形石英玻璃衬底上的生长层则是附着良好的非晶态膜.
%K 薄膜
%K 化学气相淀积
%K 氧化钇
%U http://www.wjhxxb.cn/wjhxxbcn/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=19870411&flag=1