%0 Journal Article
%T 锰的硅化物薄膜在si(111)-7×7表面的固相反应生长
%A 王丹
%A 邹志强
%A 孙静静
%A 赵明海
%J 物理化学学报
%D 2010
%X 利用超高真空扫描隧道显微镜(stm)对沉积在si(111)-7×7重构表面上的锰薄膜在300-650℃之间的固相反应进行了研究.锰原子最初在si(111)衬底上形成锰的纳米团簇的有序阵列,经过300℃退火后,锰纳米团簇的尺寸增大并且纳米团簇阵列由有序变为无序;当退火温度达到400℃左右时,锰纳米团簇与硅衬底发生反应生成富锰的三维岛状物和由mnsi构成的平板状岛;500℃退火后生成物全部转变为mnsi平板状岛;650℃退火后生成物则由mnsi平板状岛全部转变为富硅的不规则的大三维岛,同时被破坏的衬底表面重新结晶形成7×7结构.
%K 扫描隧道显微镜
%K si(111)-7×7重构表面
%K 固相反应
%K 锰的硅化物
%K 退火
%U http://www.whxb.pku.edu.cn/CN/abstract/abstract27011.shtml