%0 Journal Article
%T 室温铁磁性ni2+掺杂tio2纳米带的制备与表征
%A 张宏晔
%A 嵇天浩
%A 李玲龙
%A 齐兴义
%A 刘奕帆
%A 蔡建旺
%A 杜海燕
%A 孙家跃
%J 物理化学学报
%D 2008
%K 稀磁半导体
%K 纳米带
%K ni-掺杂氧化钛
%K 室温铁磁性
%U http://www.whxb.pku.edu.cn/CN/abstract/abstract25621.shtml