%0 Journal Article
%T 铪离子等离子体源离子注入铜基体的数值模拟
%A 王加梅
%A 赵青
%A 武洪臣
%J 强激光与粒子束
%P 1103-1106
%D 2012
%X ？通过srim软件对铪离子等离子体源离子注入铜进行了模拟。模拟了铪离子注入铜的核阻止本领、电子阻止本领、入射深度随能量的变化，以及在不同注入条件下铪离子的摩尔浓度分布，并对模拟结果进行了分析。结果显示：能量低于6mev时核阻止本领占主导地位，高于6mev时电子阻止本领成为主要的能量损失，并且离子注入过程中会出现能量沉积的bragg峰和质量沉积区域较集中的现象，入射深度随能量的增加而增加。
%K ？
%K 等离子体源离子注入
%K 蒙特卡罗方法
%K 数值模拟
%K 表面改性
%U http://www.hplpb.com.cn/CN/abstract/abstract6166.shtml