%0 Journal Article
%T 基于marangoni界面效应的数控化学抛光去除函数的研究
%A 侯晶
%A 许乔
%A 雷向阳
%A 周礼书
%A 张清华
%A 王健
%J 强激光与粒子束
%P 0-0
%D 2005
%X ？利用基于marangoni界面效应对化学抛光去除函数的理论及实验进行研究，提出采用湿法化学抛光（刻蚀）方法为大口径高精度光学元件的加工提供新的解决途径。介绍了marangoni界面效应及其验证实验，运用wyko轮廓仪对熔石英基片局域刻蚀前后的粗糙度进行检测，结果表明，粗糙度基本无变化，刻蚀前后粗糙度分别为0.72nm和0.71nm。基于preston假设，建立了数控化学抛光理论模型，运用wyko干涉仪观察实验现象可知，化学抛光刻蚀曲线基本上成平底陡峭的去除函数曲线，小磨头抛光是倒置的仿高斯函数曲线。
%K marangoni界面效应
%K 数控化学抛光
%K 去除函数
%K 化学刻蚀
%U http://www.hplpb.com.cn/CN/abstract/abstract461.shtml