%0 Journal Article
%T hfo<sub>2</sub>/sio<sub>2</sub>双色膜在1064nm和532nm激光辐照下的损伤特性
%A 潘峰
%A 陈松林
%A 李海波
%A 马平
%A 王震
%J 强激光与粒子束
%P 0-0
%D 2011
%X ？采用电子束蒸发的方式,制备了有氧化硅内保护层和没有氧化硅内保护层的1064nm高透过、532nm高反射的hfo2/sio2双色膜,测量了它们的光学性能以及在基频和倍频激光辐照下的抗损伤性能。结果表明:氧化硅内保护层提高了双色膜在基频光辐照下的损伤阈值，对双色膜在倍频光辐照下的损伤阈值无明显影响。通过观察薄膜的损伤形貌，分析破斑的深度信息结合驻波场分布，对两类双色膜在基频光和倍频光下的损伤机制做了初步探讨。分析表明:氧化硅内保护层提高了膜基界面的抗损伤性能，从而提高了双色膜在基频光下的损伤阈值。
%K 双色膜
%K 内保护层
%K 基频光
%K 倍频光
%K 激光损伤
%U http://www.hplpb.com.cn/CN/abstract/abstract4956.shtml