%0 Journal Article
%T 不同类型蒸发源对平面夹具薄膜均匀性的影响
%A 董磊
%A 赵元安
%A 易葵
%A 邵建达
%A 范正修
%J 强激光与粒子束
%P 0-0
%D 2005
%X ？分析了几种可能的实际蒸发源与薄膜均匀性的关系，其中包括扩展的平面蒸发源和曲面蒸发源。通过实验论证了薄膜均匀性对蒸发源尺寸和蒸发特性的依赖关系。得到的分析结果表明：当蒸发源半径和夹具高度的比值小于1/17时，蒸发源可以被视为一个点面源；大于1/10时，应当把蒸发源视为面面源进行考虑。当挖坑深度和蒸发源半径的比值介于0和0.5之间时,挖坑对薄膜均匀性造成的影响基本可以忽略；大于0.6时，挖坑效应明显影响薄膜的均匀性。
%K 薄膜
%K 均匀性
%K 蒸发源
%K 挖坑效应
%U http://www.hplpb.com.cn/CN/abstract/abstract506.shtml