%0 Journal Article
%T 退火温度对溅射铝膜结构与电性能的影响
%A 程丙勋
%A 吴卫东
%A 何智兵
%A 许华
%A 唐永建
%A 卢铁城
%J 强激光与粒子束
%P 0-0
%D 2008
%X ？采用直流磁控溅射方法成功地制备了al膜，研究了退火温度对al膜表面形貌、晶体结构、应力、择优取向及反射率的影响。研究表明：不同退火温度的薄膜晶粒排布致密而光滑，均方根粗糙度小。xrd测试表明：不同温度退火的铝膜均成多晶状态，晶体结构为面心立方，退火温度升高到400℃时，al膜的应力最小达0.78gpa，薄膜平均晶粒尺寸由18.3nm增加到25.9nm；随着退火温度的升高，(200)晶面择优取向特性变好。薄膜紫外-红外反射率随着退火温度的升高而增大。
%K al膜
%K 退火温度
%K 应力
%K 择优取向
%K 反射率
%U http://www.hplpb.com.cn/CN/abstract/abstract3449.shtml