%0 Journal Article
%T sc<sub>2</sub>o<sub>3</sub>替代层在532nm高反膜中的应用
%A 刘光辉
%A 方明
%A 晋云霞
%A 张伟丽
%A 贺洪波
%A 范正修
%J 强激光与粒子束
%P 0-0
%D 2009
%X ？将sc2o3替代层引入到532nm高反膜(hfo2/sio2)n中，利用sc2o3在盐酸中具有较好的溶解性这个特点，把膜层与基片脱离，以方便基片返修，缩短返修周期，降低成本。能量色散谱元素测试表明，脱离后sc元素残留率为0。用lamada900分光光度计、wykont1100轮廓仪和zygo干涉仪分别表征了替代层引入对高反膜的光谱、表面粗糙度和应力的影响，并测试了膜系在532nm的激光损伤阈值的变化，结果表明sc2o3替代层的引入对高反膜的性能几乎没有负面影响。
%K 替代层
%K 高反膜
%K 应力
%K 激光损伤阈值
%K 抛光
%U http://www.hplpb.com.cn/CN/abstract/abstract2356.shtml