%0 Journal Article
%T 氧等离子体刻蚀cvd金刚石膜的影响机理
%A 潘鑫
%A 马志斌
%A 李国伟
%A 曹为
%A 王传新
%A 付秋明
%J 强激光与粒子束
%D 2014
%X ？采用电子回旋共振（ecr）等离子体在不同的磁场位形和工作气压下刻蚀化学气相沉积（cvd）金刚石膜，运用双探针和离子灵敏探针法对等离子体进行了诊断，研究了等离子体参数对刻蚀效果的影响。结果表明：磁场由发散场向收敛场转变时，离子温度、电子温度和等离子体密度都随之增大，刻蚀效果逐渐增强；当工作气压由低气压向高气压变化时，等离子体参数先增大后减小，cvd金刚石膜表面粗糙度降低程度也出现了相同的趋势。
%K 刻蚀
%K cvd金刚石
%K 等离子体参数
%K ecr等离子体
%U http://www.hplpb.com.cn/CN/abstract/abstract9226.shtml