%0 Journal Article
%T 沉积温度对热舟蒸发mgf<sub>2</sub>薄膜性能的影响
%A 尚淑珍
%A 赵祖欣
%A 邵建达
%J 强激光与粒子束
%P 0-0
%D 2008
%X ？采用热舟蒸发方法沉积了氟化镁(mgf2)材料的单层膜，沉积温度从200℃上升到350℃，间隔为50℃。测量了样品的透射率和反射率光谱曲线，进行了表面粗糙度的标定，并在此基础上进行了光学损耗及散射损耗的计算。同时对355nm波长处的激光诱导损伤阈值进行了测量。结果表明:随着沉积温度的升高，光学损耗增加;在短波长范围散射损耗在光学损耗中所占比例很小，光学损耗的增加主要由吸收损耗引起；在355nm波长处的损伤阈值变化与吸收损耗的变化趋势相关，损伤机制主要是吸收起主导作用。样品的微缺陷密度也是影响损伤阈值的一个重要因素，损伤阈值随缺陷密度的增加而降低。
%K 光学薄膜
%K 氟化镁
%K 光学损耗
%K 吸收
%K 损伤阈值
%U http://www.hplpb.com.cn/CN/abstract/abstract3247.shtml