%0 Journal Article
%T 电子束蒸发沉积六硼化镧薄膜的逸出功
%A 祁康成
%A 王小菊
%A 林祖伦
%A 陈文彬
%A 曹贵川
%J 强激光与粒子束
%P 0-0
%D 2010
%X ？六硼化镧(lab6)具有电子逸出功低、高熔点和高化学稳定性等优点，是制作热阴极和场发射阴极的理想发射体材料。而且在常规场发射尖锥表面涂敷一层lab6)薄膜能够大幅度提高场发射尖锥的发射能力。为了测量lab6)薄膜的逸出功，采用电子束蒸发技术沉积lab6)薄膜，并对薄膜进行了x射线衍射分析和x射线光电谱分析。通过测量薄膜的热电子发射特性和敷lab6)薄膜的硅尖锥阵列的场致电子发射特性确定了lab6薄膜的逸出功，与块状lab6)多晶材料的逸出功大体相同，说明电子束蒸发沉积技术适合于制备高纯度、低逸出功的lab6薄膜。
%K 六硼化镧
%K 逸出功
%K 电子束蒸发
%K 热发射
%K 场发射
%U http://www.hplpb.com.cn/CN/abstract/abstract4291.shtml