%0 Journal Article
%T 退火及超声处理对zno薄膜结构和发光特性的影响
%A 徐东然
%A 肖效光
%A 王长征
%A 张一清
%A 张栋
%A 高学喜
%A 刘云龙
%J 强激光与粒子束
%P 0-0
%D 2007
%X ？利用对向靶射频磁控溅射系统在si（100）衬底上制备了zno薄膜，并对其进行了退火和超声处理。采用xrd,afm和光致发光谱对其结构、表面形貌和性能进行了分析。结果表明：沉积态zno薄膜（002）择优取向稍差,尺寸较小,表面粗糙度较大。随退火温度的升高，颗粒粒径增大，样品的取向性和结晶度都明显变好，应力状态由压应力转变为张应力,粗糙度降低。超声处理缓解了薄膜中的张应力，晶粒尺寸更趋增大;用波长为280nm的激发光激发薄膜时，沉积态薄膜无发光峰存在;随着退火温度升高，出现了一个378nm的紫外峰和一个398nm的紫峰;紫外峰峰值强度随退火温度升高不断增强，而紫峰的峰位随退火温度升高基本不发生变化，峰值强度增强;700℃退火后的薄膜经超声处理后，发光谱中出现了峰值波长为519nm的绿色发光带。
%K zno薄膜
%K 退火处理
%K 超声处理
%K 光致发光
%K 对向靶
%K 磁控溅射
%U http://www.hplpb.com.cn/CN/abstract/abstract3235.shtml