%0 Journal Article
%T 氧回旋离子束刻蚀化学气相沉积金刚石膜
%A 吴俊
%A 马志斌
%A 沈武林
%J 强激光与粒子束
%P 2459-2463
%D 2012
%X ？利用非对称磁镜场电子回旋共振等离子体产生的氧回旋离子束刻蚀了化学气相沉积金刚石膜，研究了工作气压和磁电加热电压对金刚石样品附近的离子温度和密度的影响，并分析了金刚石膜的刻蚀和机械抛光效果。结果表明：当工作气压为0.03pa，磁电加热电压为200v时，离子温度和密度最大，分别为7.38ev和23.8×1010cm-3。在此优化条件下刻蚀金刚石膜4h后，其表面粗糙度由刻蚀前的3.525μm降为2.512μm，机械抛光15min后,表面粗糙度降低为0.517μm，即金刚石膜经离子束刻蚀后可显著提高机械抛光效率。
%K 离子灵敏探针
%K 离子温度
%K 金刚石膜
%K 刻蚀
%K 回旋离子束
%U http://www.hplpb.com.cn/CN/abstract/abstract6744.shtml