%0 Journal Article
%T sio<sub>2</sub>/hfo<sub>2</sub>高反射膜的研制
%A 程鑫彬
%A 沈正祥
%A 焦宏飞
%A 马彬
%A 张锦龙
%A 丁涛
%A 王占山
%J 强激光与粒子束
%P 1276-1280
%D 2012
%X ？主要讨论了电子束蒸发sio2/hfo2薄膜的面形控制和损伤性能。研究了电子束蒸发工艺参数对薄膜应力以及面形的影响；分析了制备工艺对薄膜吸收、节瘤缺陷密度的影响，测量了制备薄膜的损伤阈值。研究结果表明：调整sio2蒸发时的氧分压可以有效地将薄膜的应力控制在-250~-50mpa。同时采用金属hf蒸发可以显著地将节瘤缺陷密度从12.6mm-2降低至2.7mm-2，同时将损伤阈值从30j/cm2提高至55j/cm2。？
%K 应力
%K 面形
%K 吸收
%K 节瘤缺陷
%K 预处理
%K 激光损伤
%U http://www.hplpb.com.cn/CN/abstract/abstract6221.shtml