%0 Journal Article
%T 驱动光束不均匀性研究中的硅平面薄膜
%A 周斌
%A 韩明
%A 陆卫昌
%A 徐平
%A 赖珍荃
%A 沈军
%A 邓忠生
%A 吴广明
%A 张勤远
%A 陈玲燕
%A 王珏
%J 强激光与粒子束
%P 0-0
%D 2000
%X ？介绍以氧化、扩散、光刻等现代半导体技术结合化学腐蚀工艺实现对si片的定向自截止腐蚀，制备获得用于研究驱动光束不均匀性的自支撑si平面薄膜的工艺。通过台阶仪测量厚度在3~4μm的si平面薄膜，在扫描范围为1000μm时，它的表面粗糙度在几十nm；sem测量表明，si薄膜表面颗粒度在纳米量级；探讨采用控制扩散、腐蚀参数和表面修饰处理来降低si膜表面粗糙度的方法。
%K si平面薄膜
%K 瑞利-泰勒不稳定性
%K icf分解实验
%K 驱动光束不均匀
%U http://www.hplpb.com.cn/CN/abstract/abstract1642.shtml