%0 Journal Article
%T 脉冲激光气相沉积技术及其在icf薄膜靶制备中的应用
%A 吴卫东
%A 许华
%A 魏胜
%A 唐永建
%A 陈正豪
%J 强激光与粒子束
%P 0-0
%D 2002
%X ？在icf实验及天体物理的辐射不透明实验中，经常用到多层薄膜靶，激光脉冲气相沉积（pld）技术是制备多层薄膜靶的较好方法。论述了pld技术的原理、实验方法和装置的设计，用该方法初步制备了原子级光滑的cu及cu/fe薄膜。cu薄膜的均方根粗糙度为0.2nm，fe薄膜的均方根粗糙度为0.4nm。
%K 脉冲激光气相沉积
%K icf
%K 靶制备
%U http://www.hplpb.com.cn/CN/abstract/abstract1383.shtml