%0 Journal Article
%T 太赫兹全金属光栅工艺中光刻胶内应力
%A 卢怡如
%A 张称
%A 阮久福
%A 杨军
%A 邓光晟
%A 吕国强
%J 强激光与粒子束
%D 2015
%X ？建立了光刻工艺中内应力的三维有限元分析模型，采用热-结构耦合分析，研究了胶膜厚度、后烘温度以及降温速率对su-8胶层中的内应力产生的影响。综合以上因素发现，较胶膜厚度和后烘温度，降温速率对胶膜应力影响最大，降温速率越小，胶膜内应力越小，当降温速率小于6℃/h时，进一步降低降温速率对内应力影响不大。根据上述仿真结果进行了全金属光栅的工艺实验，发现与内应力相关的问题得到了有效解决。
%K 全金属光栅器件
%K 光刻
%K 有限元
%K 内应力
%K 粘弹性
%U http://www.hplpb.com.cn/CN/abstract/abstract10978.shtml