%0 Journal Article
%T x光激光薄膜锗靶的制备
%A 许华
%A 崔保顺
%A 赵朝康
%A 王明达
%A 卓志云
%A 常富华
%A 陈志梅
%A 娄巧娅
%J 强激光与粒子束
%P 0-0
%D 1996
%X ？介绍了x光激光薄膜锗靶的制备工艺，在厚度为90nm的formvar膜上，采用磁控溅射技术沉积30~60nm厚的锗膜。对锗膜的应力进行了初步的测试与分析，制得的薄膜经干涉仪测量符合要求。
%K 射频磁控溅射
%K 锗膜
%K formvar膜
%K 干涉条纹位移法
%K 应力
%U http://www.hplpb.com.cn/CN/abstract/abstract173.shtml