%0 Journal Article
%T 纳米光刻技术
%A 罗先刚
%A 姚汉民
%A 严佩英
%A 陈旭南
%A 冯伯儒
%J 物理
%P 0-0
%D 2000
%X ？纳米科学技术将成为新世纪信息时代的核心.纳米量级结构作为研究微观量子世界的重要基础之一,其制作技术是整个纳米技术的核心基础,已成为当前世界科学研究急需解决的问题.文章针对目前的科技发展情况,介绍了几种纳米光刻技术的实现新途径、发展现状和关键问题.详细阐述了波前工程、电子束光刻、离子束光刻、x射线光刻、原子光刻、干涉光刻、极紫外光刻以及157光刻的原理和实现难点.作为下一代各种光刻技术,它们都有望实现纳米量级的图形,但各种技术可实现的分辨力极限有所不同.50nm以上分辨力可以用193nm光刻结合波前工程和干涉光刻实现.50nm左右的分辨力可用极紫外光刻、157光刻和126nm光刻实现.而电子束光刻、离子束光刻、x射线光刻、原子光刻则可望实现几个纳米的分辨力.但是这些技术的完善还有待于诸如光学系统、抗蚀剂、精密控制等等相关技术的成熟.文章还讨论了纳米光刻技术的应用前景.
%K 纳米光刻
%K 波前工程
%K 电子束光刻
%K 离子束光刻
%K x射线光刻
%K 原子光刻
%U http://www.wuli.ac.cn/CN/abstract/abstract29854.shtml