%0 Journal Article
%T 溅射及其应用
%A 陈国明
%A 柳襄怀
%A 争世昌
%J 物理
%P 0-0
%D 1981
%X ？当入射离子能量超过靶材料的溅射阈能时，就会发生溅射现象．离子刻蚀和薄膜生长乃是溅射实际应用中的两个重要方面．一、溅射的物理基础１．溅射率随寓子入射能量的变化一个离子轰击靶表面时，被溅射出来的靶原子数目称为溅射率ｓ（原子数／离子）．溅射率ｓ随入射离子能量ｅ的变化而变化．图１是在氩离子轰击多晶铜靶时，溅射率ｓ随氮离子能量ｅ的变化曲线［１］．在图１中，区域ｉ表明由于氩离子能量ｅ＜１０ｅｖ（低于铜?...
%U http://www.wuli.ac.cn/CN/abstract/abstract27202.shtml