%0 Journal Article
%T x射线光刻与超大规模集成电路
%A 顾柏春
%J 物理
%P 0-0
%D 1984
%X ？当前，集成电路正在向超大规模集成电路发展，预期在１９８５年到１９９０年间超大规模集成电路设计中将采用线宽为１至０．５微米的电路几何图形加工工艺（即亚微米工艺）．这将使电路成本大大下降，例如采用２微米线条，存储器每位成本为３２００微美分，采用１．５微米线条，成本为１９２５微美分，采用０．５微米线条，成本则下降至８４微美分．由于这样明显的经济效益，超大规模集成电路所需的各种技术正在迅速发展，其中?...
%U http://www.wuli.ac.cn/CN/abstract/abstract27574.shtml