%0 Journal Article
%T 用离子技术合成类金刚石薄膜
%A 郭华聪
%J 物理
%P 0-0
%D 1985
%X ？用离子技术合成的类金刚石碳膜（ｉ－ｃ膜）具有一系列优良的性能高的绝缘性，电阻率为１０～７－１０～（１４）ｑ·ｃｍ，电导率有负的温度系数（１０～（－２）－１０～（－４）℃～（－１））；高的介电强度，击穿电压约１０～６ｖ·ｃｍ～（－１），介电常数为８－１２；较高的硬度，显微硬度高于３０００ｋｇ／ｍｍ～２；较好的光学透射性，有大的光带隙（１—２．６ｅｖ），可以掺杂成ｎ型或ｐ型材料；对酸和有机溶液?...
%U http://www.wuli.ac.cn/CN/abstract/abstract27832.shtml