%0 Journal Article
%T 掺杂半导体扫描电镜二次电子像
%A 孙霞
%A 丁泽军
%A 吴自勤
%J 物理
%P 0-0
%D 2004
%X ？综述了用扫描电镜的二次电子像获得掺杂半导体衬度剖析的方法.实验发现掺杂半导体扫描电镜像对杂质浓度的灵敏度可以达到1016cm-3，且空间分辨率高达nm量级，是最有可能发展成为下一代掺杂剖析成像的主流技术.文中还探讨了半导体掺杂衬度的可能的机理，详细介绍了两种主要机理表面能带弯曲和样品外局域电场的出现.
%K 掺杂衬度
%K sem
%K 半导体
%U http://www.wuli.ac.cn/CN/abstract/abstract30369.shtml