%0 Journal Article
%T 紫外光谱法探讨偏二甲肼废水氧化降解机理
%A 刘博
%A 刘祥萱
%A 卜晓宇
%J 含能材料
%D 2015
%R 10.11943/j.issn.1006-9941.2015.10.011
%X 针对目前偏二甲肼(UDMH)降解方法存在中间产物毒性高、难降解的问题, 建立了跟踪、分析UDMH废水氧化降解产物的紫外光谱检测方法。确立了UDMH降解过程中产物峰的归属。解析了Cu2+/H2O2和Fenton两种氧化体系的降解产物, 推测了降解反应机理。结果表明: UDMH和偏腙(FDMH)的紫外峰值分别在200 nm和235 nm。两种体系可有效地降解UDMH废水, 但Cu2+/H2O2体系中间产物较多、毒性较大。先加入H2O2较先加入Cu2+能减少中间产物。铁粉的加入有利于中间产物的减少。Fenton体系能有效地抑制有毒中间产物的产生
%K 偏二甲肼(UDMH) 废水 氧化 降解 紫外光谱
%U http://www.energetic-materials.org.cn/hncl/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=2014192&flag=1