%0 Journal Article
%T Al/Ni和Al/Ti纳米多层薄膜制备与表征
%A 李东乐
%A 朱朋
%A 付帅
%A 沈瑞琪
%A 叶迎华
%A 华天丽
%J 含能材料
%D 2013
%R 10.3969/j.issn.1006-9941.2013.06.012
%X 用磁控溅射法制备了Al/Ni、Al/Ti纳米多层薄膜。用场发射扫描电子显微镜(FESEM)、原子力显微镜(AFM)和X-射线衍射仪(XRD)对其进行了结构表征和成分分析。用差示扫描量热法(DSC)测定了纳米多层薄膜的反应放热量。结果表明:工作压力为0.4Pa,Al、Ni、Ti溅射功率分别为200,220,180W条件下制备的Al/Ni、Al/Ti多层薄膜表面均匀致密,无尖锐峰,层状结构分明,组成成分分别为Al、Ni和Al、Ti单质状态;Al/Ni、Al/Ti多层薄膜放热量分别为1134.64,918.36J·g-1,达到理论值的82.2%,80.7%。
%K 军事化学与烟火技术
%K Al/Ni纳米多层薄膜
%K Al/Ti纳米多层薄膜
%K 磁控溅射
%K 结构表征
%K 热分析
%U http://www.energetic-materials.org.cn/hncl/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=2013061&flag=1