%0 Journal Article
%T PbZr0.52Ti0.48O3薄膜红外椭圆偏振光谱研究
%J 红外与毫米波学报
%D 2003
%X 用磁控溅射法在Pt/Ti/SiO2/Si衬底上制备了PbZr0.52Ti0.48O3(PZT)薄膜.XRD结果表明经过退火后的PZT薄膜呈现多晶结构.通过红外椭圆偏振光谱仪测量了λ为2.5～12.6μm范围内PZT薄膜的椭偏光谱,采用经典色散模型拟合获得PZT薄膜的红外光学常数,同时拟合得到未经处理的PZT薄膜和退火后PZT薄膜的厚度分别为454.2nm和450.3nm.最后通过拟合计算得到结晶PZT薄膜的静态电荷值为|q|=1.769±0.024.这说明在磁控溅射法制备的PZT薄膜中,电荷的转移是不完全的.
%K PbZr0.52Ti0.48O3薄膜红外椭圆偏振光谱光学常数静态电荷铁电薄膜锆钛酸铅
%U http://journal.sitp.ac.cn/hwyhmb/hwyhmbcn/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=20030113&flag=1