%0 Journal Article
%T 全息光刻和二次显影法制备柱形二维光子晶体
%A 曹远迎
%A 张永刚
%A 李耀耀
%A 顾溢
%A 李爱珍
%A 李好斯白音
%J 红外与毫米波学报
%D 2014
%X 采用全息光刻和二次显影的方法制备了柱形二维光子晶体.在此过程中,二维点状的周期结构首先在正性光刻胶上直接形成,然后经由Si3N4硬掩模转移到衬底材料上.利用二次显影的方法,曝光强度最强和曝光强度中等区域的光刻胶能够被同时充分显影,而曝光强度最弱区域的光刻胶则可以完全被保留下来.通过调节入射角,可以方便地调节二维结构的周期.利用此方法,在相对较大的面积上制备了不同周期的二维结构,二维结构具有很好的均匀性和重复性.文章对有关的工艺参数进行了详细讨论.
%K 全息光刻
%K 二维光子晶体
%K 柱形
%K 二次显影
%U http://journal.sitp.ac.cn/hwyhmb/hwyhmbcn/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=120747&flag=1