%0 Journal Article %T DC磁控溅射制备的TiNx薄膜组分及性能分析 %A 李海翼 %A 赖珍荃 %A 朱秀榕 %A 胡敏 %J 红外与毫米波学报 %D 2010 %X 利用DC磁控溅射法在p-Si(111)衬底上制备了TiNx薄膜。利用X射线能谱仪(EDX)、X射线衍射(XRD)、紫外/可见分光光度计、四探针电阻率测试仪等分析薄膜的组分、结构和特性。结果表明:薄膜中原子比N/Ti接近于1;衬底温度对薄膜的择优取向影响显著,240℃附近是TiNx薄膜结晶择优取向由(111)向(200)转变的临界点;薄膜的反射率在近红外波段平均反射率随衬底温度升高,先增大后减小,薄膜的电阻率随着衬底温度的升高而显著降低。 %K 氮化钛薄膜 %K 磁控溅射 %K 反射率 %K 电阻率 %U http://journal.sitp.ac.cn/hwyhmb/hwyhmbcn/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=29267&flag=1