%0 Journal Article
%T 磁控溅射法制备的PZT非晶薄膜光学性质研究
%J 红外与毫米波学报
%D 2004
%X 采用磁控溅射方法在石英玻璃上制备了PbZrxTi1-xO3(PZT)(x=0．52)非晶薄膜，并测量了200～1100nm的紫外．可见．近红外透射光谱．基于薄膜的结构和多层结构的透射关系，发展了仅有6个拟合参数的光学常数计算模型．利用该模型，可以同时获得薄膜在宽波段范围内的光学常数和厚度，得到折射率的最大值为2．68，消光系数的最大值为0．562，拟合薄膜厚度为318．1nm．根据Tauc′s法则，得到PZT非晶薄膜的直接禁带宽度为3．75eV．最后，利用单电子振荡模型成功地解释了薄膜的折射率色散关系．
%K 磁控溅射法PZT非晶薄膜禁带宽度折射率透射率消光系数
%U http://journal.sitp.ac.cn/hwyhmb/hwyhmbcn/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=20040344&flag=1