%0 Journal Article
%T 锗掺杂二氧化硅膜的紫外光致折变
%A 张乐天
%A 王健
%A 郑杰
%A 李爱武
%A 钱颖
%A 郑伟
%A 张玉书
%J 吉林大学学报(工学版)
%P 547-550
%D 2005
%X 研究了用火焰水解法制备的掺锗二氧化硅膜在KrF紫外激光下曝光后的结构和光学性质的变化。经过10min的照射后，在1550nm处的折射率变化大约为3.41×10-3。采用原子力显微镜分析了曝光过程及膜的表面形貌。结果表明：随着曝光时间的延长，膜的致密性增加，表面粗糙度下降，折射率增大。
%K 材料失效与保护
%K 锗硅
%K 火焰水解法
%K KrF激光
%K 折射率
%K 材料失效与保护
%K 锗硅
%K 火焰水解法
%K KrF激光
%K 折射率
%U http://xuebao.jlu.edu.cn/gxb/CN/Y2005/V35/I05/547