%0 Journal Article
%T Ge1-xCx薄膜的制备及红外特性的研究
%A 吴小文
%A 张维佳
%A 钟立志
%A 黄浩
%J 材料工程
%P 53-57
%D 2005
%X 利用等离子体化学气相沉积(PECVD)法制备出Ge1-xCx薄膜,并系统地研究了工艺参数对薄膜成分的影响,以及不同组分Ge1-xCx薄膜的红外光学特性。结果表明,薄膜中的C含量随着CH4/GeH4气体流量比的增大而增大;薄膜的红外折射率随组分的不同在2~4范围内变化;薄膜的沉积速率随射频功率增大而增大,但当功率达到60W以后其变化不明显;沉积速率随温度的增加而减少;该薄膜具有透长波红外的性能。
%K Ge1-xCx薄膜
%K PECVD
%K 红外特性
%K 沉积速率
%U http://jme.biam.ac.cn/CN/Y2005/V0/I1/53