%0 Journal Article
%T 退火对Y2O3薄膜结构和光学性能的影响
%A 王耀华
%A 陈广超
%A 贺琦
%A 李成明
%A 吕反修
%J 材料工程
%P 47-51
%D 2010
%X 采用脉冲式静电辅助的气溶胶化学气相沉积方法成功的在Si(100)衬底上制备了Y2O3薄膜,研究了退火对Y2O3沉积薄膜的形貌、结构和光学性质的影响。X射线衍射分析结果表明沉积得到的Y2O3薄膜在退火前为非晶态结构,退火之后薄膜具有立方结构,并且具有(111)择优取向。SEM分析显示薄膜在退火后更加平滑、致密。椭偏仪的测试结果表明薄膜退火后的折射系数提高,消光系数减少。
%K ESAVD
%K 氧化钇薄膜
%K 折射系数
%U http://jme.biam.ac.cn/CN/Y2010/V0/I2/47