%0 Journal Article
%T 磁控溅射NbSiN复合膜的微结构和性能
%A 喻利花
%A 苑彩云
%A 许俊华
%J 材料工程
%P 35-39
%D 2013
%R 10.3969/j.issn.1001-4381.2013.07.007
%X 用磁控溅射方法制备了一系列不同Si含量的NbSiN复合薄膜。采用色散能谱仪、X射线衍射仪、纳米压痕仪、高温摩擦磨损仪表征复合膜的成分、微结构、力学性能以及室温和高温摩擦磨损性能。实验结果表明NbSiN复合膜中只存在面心立方NbN结构,且呈(200)择优取向;Si的加入使复合膜硬度得到提高,Si含量为20.29%(原子分数)时硬度达到最大值32.1GPa,随着Si含量的进一步增加,复合膜的硬度逐步降低。室温和高温摩擦磨损实验结果表明,在室温时,NbSiN复合膜的平均摩擦因数在0.60~0.68之间,波动不大;而在650℃时,随着Si含量的增加,复合膜的平均摩擦因数从0.57降至0.42;650℃时的平均摩擦因数低于室温下的平均摩擦因数与氧化物的生成有关。
%K NbSiN
%K 磁控溅射
%K 微结构
%K 力学性能
%K 摩擦磨损性能
%U http://jme.biam.ac.cn/CN/10.3969/j.issn.1001-4381.2013.07.007