%0 Journal Article
%T 活性填料钽在聚碳硅烷转化陶瓷中的应用
%A 谢征芳
%A 陈朝辉
%A 李永清
%A 郑文伟
%A 胡海峰
%A 肖加余
%J 材料工程
%P 7-10
%D 2000
%X 研究了活性填料钽(Ta)在聚碳硅烷(PCS)先驱体转化陶瓷中的应用.研究表明,活性填料Ta能有效降低陶瓷素坯的气孔率.Ta可与PCS气态裂解产物和N2气氛反应生成新的化合物,提高PCS的陶瓷产率.Ta还能提高烧成体的强度.但是Ta的引入并不能抑制坯体在裂解过程中的收缩.Ta含量越高,陶瓷烧成体的线收缩越大.
%K 活性填料
%K 钽
%K 聚碳硅烷
%K 陶瓷
%U http://jme.biam.ac.cn/CN/Y2000/V0/I9/7