%0 Journal Article
%T 纯钛微弧氧化阳极工艺过程模型的建立及实验研究
%A 王宏元
%A 朱瑞富
%A 王志刚
%A 吕宇鹏
%A 肖桂勇
%A 朱先俊
%J 材料工程
%P 34-38
%D 2012
%X 对纯钛微弧氧化陶瓷膜在工艺过程中的生长规律进行了实验研究,分析了陶瓷层表面形貌、厚度、相结构等不同生长阶段的特点。基于微弧氧化工艺过程阳极等效电路,建立了电极电压、电流密度、频率、占空比、时间等工艺参数对陶瓷膜性能影响的理论模型。模型分析结果表明在陶瓷层成膜后,随着膜层厚度的增加,金红石相TiO2相对含量增加;膜层厚度不变时,工艺过程趋于停止。模型分析与实验结果是吻合的,为提高陶瓷膜层性能并改善微弧氧化工艺提供了理论基础。
%K 微弧氧化
%K 纯钛
%K 工艺过程
%K 阳极
%K 模型
%U http://jme.biam.ac.cn/CN/Y2012/V0/I7/34